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牛津Oxford等离子体刻蚀机PlasmaPro 80 RIE
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牛津Oxford等离子体刻蚀机PlasmaPro 80 ICP
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牛津Oxford等离子沉积机PlasmaPro 80 PECVD
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牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。
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牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力,该工艺模块可提供具有高度均匀,高产量和高精度的工艺。
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体刻蚀和淀积工艺设备
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牛津Oxford原子层刻蚀机PlasmaPro 100 ALE
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牛津Oxford深硅刻蚀机PlasmaPro 100 Estrelas
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英国Oxford 等离子沉积机PlasmaPro 80 ICPCVD
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